【新唐人北京時間2025年07月15日訊】受美國多年來主導的出口管制的影響，中共半導體產業距離「核心技術」越來越遠。華府知名智庫「安全與新興技術中心」（CSET）的最新報告指出，中國在芯片光刻技術領域遠遠落後於其它先進國家。
中國領先的光刻設備供應商上海微電子裝備（集團）股份有限公司（SMEE）在老一代光刻技術市場僅占據4%的份額，遠遠落後於全球領導者荷蘭半導體公司阿斯麥（ASML）和日本尼康公司（Nikon）。
光刻技術是芯片製造發展的核心推動技術，「安全與新興技術中心」研究人員在報告中強調，「光刻技術仍是中國芯片產業發展的關鍵瓶頸。」
中共雖然投入巨資發展芯片技術，但由於美國出口管制禁止荷蘭半導體公司阿斯麥向中國出售最先進的光刻設備，上海微電子裝備在此領域與國際領先企業的差距依然顯著。
阿斯麥壟斷了尖端光刻機市場。這些光刻機是世界上各大半導體公司生產先進芯片的必須工具，生產包括iPhone、英偉達AI加速器等所有產品所需的芯片。
《新聞直擊》製作組
（責任編輯：劉明湘）
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